徠卡顯微鏡：電子顯微鏡涂層技術(shù)

2020-09-03 14:55:23

涂層的樣品需要在該領(lǐng)域的電子顯微鏡，以啟用或提高成像的樣品。創(chuàng)建的導電層上的金屬樣品抑制充電，減少熱損傷，提高了所需的地形檢查在SEM的二次電子信號。微細碳層，即透明的電子束，但導電性，所需的X-射線微量分析，支持網(wǎng)格上的薄膜的TEM成像備份副本。分辨率和應(yīng)用程序依賴于所使用的涂層技術(shù)。

涂裝前需要掃描電鏡成像

有限的或不導電的材料樣品（陶瓷，聚合物等）的要求，碳和/或金屬涂層。低溫樣品冷凍斷裂，涂層金屬（徠卡EM ACE600冷凍斷裂和徠卡EM VCT100）和低溫SEM成像。

涂裝前需要TEM成像

覆蓋福爾瓦TEM網(wǎng)格需要涂上與碳是導電的。網(wǎng)格輝光放電處理的解決方案，否則將無法堅持下去，分發(fā)到電網(wǎng)。冷凍斷裂樣品涂覆在低角度與金屬，然后通過碳備份膜（徠卡EM ACE600冷凍斷裂和Leica EM VCT100或Leica EM BAF060）產(chǎn)生的復制品可以在TEM成像。

濺射涂覆

濺射涂層的SEM電的過程中采用*薄涂層導電金屬 - 如金/鈀（金/鈀），鉑（Pt），金（Au），銀（Ag），鉻（Cr）或銥（Ir），到非導通或?qū)щ姴涣嫉脑嚇印?/span>濺射涂覆防止充電的標本，否則就會發(fā)生，因為積累的靜電場。這也增加了二次電子的量，可以檢測到從掃描電子顯微鏡中的試樣的表面，因此，增加了信號噪聲比。用于SEM的濺射薄膜通常具有的厚度為2-20納米范圍內(nèi)。

SEM樣品的好處濺射金屬：

精簡顯微鏡束損傷
增加熱傳導
樣品充電減少（增加傳導）
改進的二次電子發(fā)射
改進的邊緣分辨率降低光束穿透
保護光束敏感的標本

碳涂層

被廣泛用于制備電子顯微鏡標本的碳的熱蒸發(fā)。甲碳源 - 無論是在一個線程或桿的形式被安裝在真空系統(tǒng)中兩個高電流電端子之間。當碳源被加熱到其蒸發(fā)溫度，細流的碳沉積到試樣上。碳涂層的主要應(yīng)用EM電子顯微鏡，X射線顯微分析和標本（TEM）網(wǎng)格的支持膜。

電子束鍍膜

金屬和碳都可以煙消云散。給出了*好的電子束鍍膜層，是一個非常定向的過程，有一個有限的表面涂層面積。電子被聚焦在靶上的被加熱，并進一步蒸發(fā)。帶電粒子從束中取出。因此，一個非常低的帶電束擊中樣品。熱量降低，并在樣品上的帶電粒子的影響降低。只有少數(shù)的運行是可能的，則源重新載入，并清理。一般，電子束被用于在任一方向的涂層是必要的（陰影和副本）或?qū)拥牧P款。